RECYCLE AND ENGRAVE Recycle, draw, etch and print with everyday items
|
RECICLA I GRAVA Recicla, dibuixa, grava i estampa amb elements quotidians
|
Font: MaCoCu
|
See the sights in this thriving Roman city, before experiencing the cataclysmic events that would etch Pompeii’s name into world history.
|
Descobreix els llocs d’interès d’aquesta pròspera ciutat romana, abans de viure els esdeveniments cataclísmics que gravarien el nom de Pompeia en la història del món.
|
Font: MaCoCu
|
Great travelers are always looking for places or images that etch themselves into our memory both for their beauty and for the amazing stories behind them.
|
Els grans viatgers sempre busquen llocs o imatges que aconsegueixin gravar-se en la memòria tant per la seva bellesa com per les increïbles històries que amaguen.
|
Font: MaCoCu
|
The time-dependent dry etch is again followed by a wet etch.
|
El gravat en sec depenent del temps és seguit de nou per un gravat en humit.
|
Font: AINA
|
An etch resistant structure that protects the underlying material from etching is called an etch mask, and an etch-resistant material located below the material to be removed is called an etch stop.
|
Una estructura resistent al gravat que protegeix el material subjacent del gravat s’anomena màscara de gravat, i un material resistent al gravat ubicat sota el material que s’elimina s’anomena topall de gravat.
|
Font: AINA
|
The trench etching process may also include multiple steps such as a nitride etch, an oxide etch and a high selectivity silicon to oxide etch.
|
El procés de gravat de trinxera també pot incloure diversos passos, com ara un gravat de nitrur, un gravat d’òxid i un gravat d’alta selectivitat de silici a òxid.
|
Font: AINA
|
Imaginary resistance (etch) layer 25.
|
Capa de resistència imaginària (gravat) 25.
|
Font: AINA
|
The preliminary common contact hole 39 may be formed by performing an etching process using an etch recipe that does not substantially etch the etch stop layer 16.
|
L’orifici de contacte comú preliminar 39 es pot formar fent un procés de gravat usant una recepta de gravat que no enregistri substancialment la capa de detenció de gravat 16.
|
Font: AINA
|
Resistance (etch) layer (upper half) 26.
|
Capa de resistència (gravat) (meitat superior) 26.
|
Font: AINA
|
This etch-back process removes excess polysilicon.
|
Aquest procés de gravat elimina l’excés de polisilici.
|
Font: AINA
|
Mostra més exemples
|