to etch v tr
- gravar
Resultats de la cerca per a «etch»
Exemples d’ús (fonts externes)
| RECYCLE AND ENGRAVE Recycle, draw, etch and print with everyday items | RECICLA I GRAVA Recicla, dibuixa, grava i estampa amb elements quotidians |
| Font: MaCoCu | |
| See the sights in this thriving Roman city, before experiencing the cataclysmic events that would etch Pompeii’s name into world history. | Descobreix els llocs d’interès d’aquesta pròspera ciutat romana, abans de viure els esdeveniments cataclísmics que gravarien el nom de Pompeia en la història del món. |
| Font: MaCoCu | |
| Great travelers are always looking for places or images that etch themselves into our memory both for their beauty and for the amazing stories behind them. | Els grans viatgers sempre busquen llocs o imatges que aconsegueixin gravar-se en la memòria tant per la seva bellesa com per les increïbles històries que amaguen. |
| Font: MaCoCu | |
| The time-dependent dry etch is again followed by a wet etch. | El gravat en sec depenent del temps és seguit de nou per un gravat en humit. |
| Font: AINA | |
| An etch resistant structure that protects the underlying material from etching is called an etch mask, and an etch-resistant material located below the material to be removed is called an etch stop. | Una estructura resistent al gravat que protegeix el material subjacent del gravat s’anomena màscara de gravat, i un material resistent al gravat ubicat sota el material que s’elimina s’anomena topall de gravat. |
| Font: AINA | |
| The trench etching process may also include multiple steps such as a nitride etch, an oxide etch and a high selectivity silicon to oxide etch. | El procés de gravat de trinxera també pot incloure diversos passos, com ara un gravat de nitrur, un gravat d’òxid i un gravat d’alta selectivitat de silici a òxid. |
| Font: AINA | |
| Imaginary resistance (etch) layer 25. | Capa de resistència imaginària (gravat) 25. |
| Font: AINA | |
| The preliminary common contact hole 39 may be formed by performing an etching process using an etch recipe that does not substantially etch the etch stop layer 16. | L’orifici de contacte comú preliminar 39 es pot formar fent un procés de gravat usant una recepta de gravat que no enregistri substancialment la capa de detenció de gravat 16. |
| Font: AINA | |
| Resistance (etch) layer (upper half) 26. | Capa de resistència (gravat) (meitat superior) 26. |
| Font: AINA | |
| This etch-back process removes excess polysilicon. | Aquest procés de gravat elimina l’excés de polisilici. |
| Font: AINA | |
| Mostra més exemples | |