Such chemical etching and apparatus for performing such chemical etching are disclosed in patent application Ser.
|
Aquest gravat químic i l’aparell per fer aquest gravat químic es descriuen a la sol·licitud de patent núm.
|
Font: AINA
|
Chemical Treatment - An alternative to mechanical treatment is chemical etching.
|
Atac químic Una alternativa al fresat mecànic és l’atac químic.
|
Font: NLLB
|
Chemical etching technology using a metal catalyst has superiority compared to the existing technology for etching semiconductors.
|
La tecnologia de gravat químic que utilitza un catalitzador metàl·lic és superior a la tecnologia existent per gravar semiconductors.
|
Font: AINA
|
The reduced thickness regions of layers 602 and 604 can be formed in any manner desired including, but not limited to chemical and photo-chemical etching.
|
Les regions de gruix reduït de les capes 602 i 604 es poden formar de qualsevol manera que es vulgui, inclòs, entre d’altres, gravat químic i fotoquímic.
|
Font: AINA
|
In one embodiment the electric connection circuit comprises copper conductive tracks, preferably obtained by chemical etching of a thin layer (few microns or few tens of microns) of copper.
|
En una realització, el circuit de connexió elèctrica comprèn pistes conductores de coure, obtingudes preferentment per gravat químic d’una capa prima (unes poques micres o unes poques desenes de micres) de coure.
|
Font: AINA
|
For instance, if each panel 36 is formed from NITINOL, the thinner region 529 can be formed by photo or chemical etching or grinding, cutting, sanding and the like.
|
Per exemple, si cada panell 36 està format per NITINOL, la regió més prima 529 es pot formar mitjançant fotogravat o gravat químic o esmerilat, tall, poliment i similars.
|
Font: AINA
|
In the case of chemical lift-off, a method of laminating a thin etching layer on the two-dimensional photonic crystal 20 and peeling the substrate 1 for a semiconductor light emitting element by chemical etching can be mentioned.
|
En el cas de l’enlairament químic, es pot esmentar un mètode per laminar una fina capa de gravat sobre el vidre fotònic bidimensional 20 i pelar el substrat 1 per obtenir un element semiconductor emissor de llum mitjançant gravat químic.
|
Font: AINA
|
The main process typically used today is called plasma etching.
|
El procés principal que normalment s’utilitza avui en dia es diu gravat plasmàtic.
|
Font: Covost2
|
The aquatint is one of the main procedures for etching in metal or intaglio printmaking, and in this type of etching the incisions or grooves are deep.
|
L’aiguatinta és un dels principals procediments de gravat en metall o calcogràfic. En aquest tipus de gravat la incisió o traç és en profunditat; per això se l’anomena, genèricament, gravat «en trau».
|
Font: MaCoCu
|
He developed the engraving field such as the etching and lithography.
|
Cultivà el gravat i treballà sobretot l’aiguafort i la litografia.
|
Font: MaCoCu
|
Mostra més exemples
|