|
[0028] The horizontal magnetron and the rotatable magnetron are each configured to supply a magnetic field into the respective targets of the horizontal magnetron and the rotatable magnetron.
|
[0028] El magnetró horitzontal i el magnetró giratori estan configurats cadascun per subministrar un camp magnètic als objectius respectius del magnetró horitzontal i el magnetró giratori.
|
|
Font: AINA
|
|
In some examples, the sputtering system comprises a rotatable magnetron adjacent to a horizontal magnetron, and one or more shields that form a chamber between the rotatable magnetron and the horizontal magnetron.
|
En alguns exemples, el sistema de bombardeig iònic comprèn un magnetró giratori adjacent a un magnetró horitzontal i un o més escuts que formen una càmera entre el magnetró giratori i el magnetró horitzontal.
|
|
Font: AINA
|
|
Professional Design Magnetron Sputtering Cathod...
|
Disseny professional de polvorització de magnetró càtode...
|
|
Font: HPLT
|
|
[0025] The sputtering system may include another (or second) magnetron assembly adjacent to the magnetron assembly.
|
El sistema de polvorització catòdica pot incloure un altre (o segon) conjunt de magnetró adjacent al conjunt de magnetró.
|
|
Font: AINA
|
|
With the rotatable magnetron rotating at a rate of about 15 revolutions per minute, a flux of gallium and indium from the rotatable magnetron is generated by applying DC power to the rotatable magnetron and the horizontal magnetron.
|
Amb el magnetró giratori girant a una velocitat d’unes 15 revolucions per minut, es genera un flux de gal·li i indi des del magnetró giratori aplicant corrent continu al magnetró giratori i al magnetró horitzontal.
|
|
Font: AINA
|
|
· They are generated from a magnetron.
|
Les ones són generades per un magnetró.
|
|
Font: NLLB
|
|
The backing plate 2 and magnetron body 4 may collectively define at least a portion of a magnetron.
|
La placa del darrere 2 i el cos del magnetró 4 poden definir col·lectivament almenys una part d’un magnetró.
|
|
Font: AINA
|
|
The sputtering system can further include one or more shields forming a chamber between the horizontal magnetron and the rotatable magnetron.
|
El sistema de polvorització catòdica pot incloure a més un o més escuts que formen una càmera entre el magnetró horitzontal i el magnetró giratori.
|
|
Font: AINA
|
|
[0027] The rotatable magnetron assembly can include a support member adapted to rotate the solid target in relation to the horizontal magnetron.
|
El conjunt de magnetró giratori pot incloure un membre de suport adaptat per girar l’objectiu sòlid en relació amb el magnetró horitzontal.
|
|
Font: AINA
|
|
The triggering signal produced by the differentiator 44 is introduced to the magnetron 46 to trigger the magnetron into a state of oscillation.
|
El senyal d’activació produït pel diferenciador 44 s’introdueix al magnetró 46 per activar el magnetró en un estat d’oscil·lació.
|
|
Font: AINA
|
|
Mostra més exemples
|
